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名称 機関 メーカー 共用範囲
SmartLab
X線回折装置 (Intelligent X-Ray Diffractometer)
京都大学
(株)リガク (Rigaku Corporation)
学内学外とも共用
ELSZ-2Plus
ゼータ電位・粒径測定システム (Zeta Potential & Particle Size Analyzer)
京都大学
大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
学内学外とも共用
DLS-8000DH
ダイナミック光散乱光度計 (Dynamic Light Scattering Spectrophotometer)
京都大学
大塚電子(株) (Otsuka Electronics Co., Ltd.)
学内学外とも共用
MSA-500-TPM2-20-D
マイクロシステムアナライザ (Micro System Analyzer)
京都大学
ポリテックジャパン(株) (Polytec)
学内学外とも共用
Dektak150
触針式段差計(CR) (Stylus Profilometer)
京都大学
Veeco社 (株)アルバック (Veeco Instruments Inc. ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
Dektak150
触針式段差計(加工評価室) (Stylus Profilometer)
京都大学
Veeco社 (株)アルバック (Veeco Instruments Inc. ULVAC, Inc.)
学内学外とも共用
Zeta-388
ウエハプロファイラ (Optical Wafer Profiler)
京都大学
ケーエルエー・テンコール(株) (KLA Corporation)
学内学外とも共用
ELS-F125HS
高速高精度電子ビーム描画装置 (Ultra-High Precision Electron Beam Lithography)
京都大学
(株)エリオニクス (ELIONIX INC.)
学内学外とも共用
NSR-2205i11D
露光装置(ステッパー) (i-line Stepper)
京都大学
(株)ニコン (NIKON CORPORATION)
学内学外とも共用
DWL2000
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
京都大学
ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments)
学内学外とも共用
D-light DL-1000GS/KCH
高速マスクレス露光装置 (High Speed Maskless Laser Lithography )
京都大学
(株)ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions, Inc.)
学内学外とも共用
MA-10
紫外線露光装置 (Contact Mask Aligner)
京都大学
(株)ミカサ (MIKASA CORPORATION)
学内学外とも共用
DELTA80 T3/VP SPEC-KU
厚膜フォトレジスト用スピンコーティング装置 (Advanced Spin Coater )
京都大学
ズース・マイクロテック(株) (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
KRC-150CBU
レジスト塗布装置 (Photoresist Spin Coater )
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
USC-2000ST
スプレーコータ (Photoresist Spray Coater)
京都大学
ウシオ電機(株) (Ushio Inc.)
学内学外とも共用
KD-150CBU
レジスト現像装置 (Photoresist Developer)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
KSC-150CBU
ウエハスピン洗浄装置 (Wafer Spin Cleaner )
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
ST050
超微細インクジェット描画装置 (Super Fine Inkjet Printer)
京都大学
(株)SIJテクノロジ (SIJTechnology, Inc.)
学内学外とも共用
KD(EB)-150CBU
有機現像液型レジスト現像装置 (EB-Resist Developer)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
F7000S-KYT01
大面積超高速電子ビーム描画装置 (Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography)
京都大学
(株)アドバンテスト (ADVANTEST CORPORATION)
学内学外とも共用
BEAMER Full Package
近接効果補正システム (Proximity Effect Correction System)
京都大学
GenISys(株) (GenISys Inc.)
学内学外とも共用
SCRD401
超臨界洗浄・乾燥装置 (Supercritical Rinser & Dryer)
京都大学
(株)レクザム (Rexxam Co., Ltd.)
学内学外とも共用
KLO-200SV1
高圧ジェットリフトオフ装置 (High Pressure Jet Lift-off System)
京都大学
(株)カナメックス (KANAMEX Co., Ltd.)
学内学外とも共用
MUM-0001
移動マスク紫外線露光装置 (Moving Mask UV Lithography)
京都大学
(株)大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
学内学外とも共用
PEM-800
両面マスクアライナー露光装置 (Double-Sided Mask Aligner)
京都大学
ユニオン光学(株) (Union Optical Co., Ltd.)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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