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大面積超高速電子ビーム描画装置 (Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)アドバンテスト (ADVANTEST CORPORATION) |
| 型番 | F7000S-KYT01 |
| 設備名称 | 大面積超高速電子ビーム描画装置 (Large Area and Ultra-High Speed Electron Beam Lithography) |
| 装置スペック | 1Xnmの解像性能で、研究開発から製造までの幅広い用途に対応。 ・加速電圧：50kV（ビーム電流：640A） ・解像度：1Xnm ・基板：□10mm〜Φ8 ・露光方式：CP、VSB（超高速描画対応） |
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