デバイス >
レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator )
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | ハイデルベルグ・インストルメンツ(株) (Heidelberg Instruments) |
| 型番 | DWL2000 |
| 設備名称 | レーザー直接描画装置 (Laser Pattern Generator ) |
| 装置スペック | 偏向変調されたΦ1umのLDビーム、高精度制御のステージとの組み合わせにより微細パターンを描画。 ・光源：h線LD（405nm） ・基板サイズ：MAX □200mm ・描画サイズ：min0.7μm ・グレースケール露光対応 |
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