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名称 機関 メーカー 共用範囲
APPS-30
枚様式HMDS処理装置
東京大学
リソテックジャパン
学内学外とも共用
DWL66+ (2024,375nm)
レーザー直接描画装置DWL66+2024
東京大学
ハイデルベルグ
学内学外とも共用
AEP-3000S
自動フォトマスクエッチング装置
東京大学
アクテス京三 (株)
学内学外とも共用
-
環境制御マニュアルプローバステーション (Environmental control manual prober station)
東京大学
東陽テクニカ 他
学内学外とも共用
F5112+VD01
高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
FA-1
卓上アッシング装置 (Compact Ashing Machine)
東京大学
サムコ (SAMCO)
学内学外とも共用
PEM800
光リソグラフィ装置PEM800 (Photomask aligner PEM-800)
東京大学
ユニオン (UNION)
学内学外とも共用
F7000S-VD02
超高速大面積電子線描画装置 (Ultrarapid Electron Beam Direct Writing and Photo Mask Fabrication Machine)
東京大学
アドバンテスト (ADVANTEST)
学内学外とも共用
MA6
光リソグラフィ装置MA-6 (MA6 Suss 6” Mask Aligner)
東京大学
ズースマイクロテック (SUSS MicroTec)
学内学外とも共用
DWL66+
レーザー直接描画装置 (Laser Drawing System)
東京大学
ハイデルベルグ (Heidelberg)
学内学外とも共用
ADE-3000S(Big)
枚葉式ZEP520自動現像装置 (ZEP520 Auto Developing Machine)
東京大学
アクテス京三 (Actes Kyosan)
学内学外とも共用
ACT-300A?S
スプレーコーター (Spray Coater)
東京大学
アクティブ (ACTIVE)
学内学外とも共用
Beamer
電子線描画用近接効果補正ソフト (Procxymity effect correction for electron beam lithography)
東京大学
GenISys (GenISys GmbH)
学内学外とも共用
LOA34-8-5-09
枚葉式自動リフトオフ装置 (Automatic liftoff system)
東京大学
エイ・エス・エイ・ピイ (ASAP)
学内学外とも共用
CE-300I
汎用ICPエッチング装置 (General purpose ICP etching machine)
東京大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
Plasma Pro 100 ICP-180
川崎ブランチ化合物用エッチング装置 (Inductively Coupled Plasma (ICP) Dry Etching System, )
東京大学
オックスフォード・インストゥルメンツ (Oxford Instruments)
学内学外とも共用
気相フッ酸エッチング装置 (Vapor Phase HF Etcher )
東京大学
IDONUS
学内学外とも共用
NE-550
汎用高品位ICPエッチング装置 ( ICP-RIE machine)
東京大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
MUC-21 ASE-Pegasus
高速シリコン深掘りエッチング装置 (Ultra Rapid Silicon Deep Reactive Ion Etching Machine)
東京大学
SPTS
学内学外とも共用
CE-S
塩素系ICPエッチング装置 ( ICP-RIE machine)
東京大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
RIE-10NR
汎用平行平板RIE装置 (Reactive Ion Etching system)
東京大学
サムコ (SAMCO)
学内学外とも共用
400ACE
集積回路パターン微細加工(FIB)装置 (FIB for LSI Repair)
東京大学
FEI
学内学外とも共用
NLD-5700Si
汎用NLDエッチング装置 (Neutral Loop Discharge (NLD) plasm dry etching system)
東京大学
アルバック (ULVAC)
学内学外とも共用
VPE-4F
XeF2ドライエッチングシステム (XeF2 Dry Etching System)
東京大学
サムコ株式会社 (SAMCO Inc.)
学内学外とも共用
NSP II
4インチ高真空EB蒸着装置 ( Ultra high vacuum evaporator)
東京大学
自作 (DIY)
学内学外とも共用
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自然科学研究機構分子科学研究所 機器センター
〒444-8585 愛知県岡崎市明大寺町字西郷中38番地
電話番号:0564-55-7490
MAIL : eqnet-office@ims.ac.jp
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