デバイス >
原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | サムコ |
| 型番 | AD-800LP-KN |
| 設備名称 | 原子層堆積装置 (Atomic Layer Deposition) |
| 装置スペック | ナノレベルかつコンフォーマルの薄膜を形成するためのALD装置。ゲート酸化膜、バリア膜、透過防止膜などへの利用が可能。 ・成膜方式：サーマル/プラズマ ・基板サイズ：小片〜Φ8" ・材料ガス：BDEAS(Si系)、TMA(Al系)、TDMAT(Ti系) ほか（要相談） ・反応ガス：H2O、O2、O3、N2、NH3、H2 ・キャリアガス：Ar、N2 |
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