デバイス >
レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | AOV(株) (AOV Co., ltd.) |
| 型番 | LAEX-1000 |
| 設備名称 | レーザアニール装置 (KrF Laser Annealing System) |
| 装置スペック | KrFレーザーを結像マスクを介して真空チャンバー内のサンプルに縮小投影することで、ターゲット表面のアニーリングを実現。 ・波長：248nm ・ビーム縮小率：7.95 ・分解能：5.3μm＠L/S |
この設備情報の修正依頼
掲載内容に不備がある場合、情報が古い場合などはこちらから修正の報告をお願いします。