デバイス >
電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置 (Electron Cyclotron Resonance Ion Shower )
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)エリオニクス (ELIONIX INC.) |
| 型番 | EIS-1200 |
| 設備名称 | 電子サイクロトロン共鳴イオンビーム加工装置 (Electron Cyclotron Resonance Ion Shower ) |
| 装置スペック | ECRプラズマを用いた異方性ドライエッチング装置。（ナノインプリントモールド作成用途に最適） ・基板サイズ：Φ2.5、Φ6、□75×7mm ・加速電圧Vac：30〜3,000V ・ビーム電流密度：>1.0mA/cm2＠Vac 1,000V／ArまたはO2 ・ビーム径：Φ108mm＠Vac 700V／ArまたはO2／0,4〜0.6mA/cm2 ・用途：Si、磁性体 ほか ・ロードロック機構 |
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