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磁気中性線放電ドライエッチング装置 (Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | (株)アルバック (ULVAC, Inc.) |
| 型番 | NLD-570 |
| 設備名称 | 磁気中性線放電ドライエッチング装置 (Magnetic Neutral Loop Discharge Plasma Dry Etcher) |
| 装置スペック | 磁気中性線プラズマ（NLD）による低圧・低電子温度・高密度プラズマを搭載したドライエッチング装置。 ・基板サイズ：Φ6 ・RF電源：2kW＠ICP(13.56MHz)、600W＠BIAS(12.5MHz) ・プロセスガス：C4F8、CHF3、CF4、Cl2、BCl3 ほか ・用途：石英、ガラス、サファイア、金属酸化物 ほか ・ロードロック機構 |
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