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多元スパッタ装置（仕様Ａ） (RF Magnetron Multi-Sputter Type-A)
学内学外とも共用
マテリアル先端リサーチインフラ
| 設置機関 | 京都大学 |
|---|---|
| 研究科・学部 | |
| 設備分類 | デバイス > |
| 製造元 | キャノンアネルバ(株) (CANON ANELVA CORPORATION) |
| 型番 | EB-1100 |
| 設備名称 | 多元スパッタ装置（仕様Ａ） (RF Magnetron Multi-Sputter Type-A) |
| 装置スペック | 研究開発〜小規模生産用の高性能RFマグネトロンスパッタリング装置（高温対応）。 ・基板サイズ：Φ4、Φ6、不定形 ・カソード：非磁性体Φ4PMC×4（RF電源：1,000W×2） ・TS距離：100〜200mm ・温度：RT〜800℃（ハロゲンランプ） ・ガス：Ar、O2 ・ターゲット：Ti、Pt、PZT、PLT ほか ・ロードロック機構 |
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